深圳中微半导体的5nm等离子体蚀刻机是光刻機嗎？

深圳中微半导体的5nm等离子体蚀刻机是光刻機嗎？

据媒体报道，2018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。 ▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍 刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron Li

中国的光刻机还不行，刻蚀机是达到世界先进水平，但两者的技术水平差距很大，就像照相机跟冲印机的区别。光刻机是照相机拍照的，负责把芯片（照片）拍好，拍漂亮，而刻蚀机则负责清洗芯片（冲印照片），光刻机把芯片电路印上去，然后刻蚀机根据印上去的芯片电路图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分，两者的技术水平不是一个等级的。 刻蚀机的技术相对光刻机要非常容易，全世界很多大企业，都可以制造比如三星、台积电等等。中国掌握了最先进5nm蚀刻机技术，达到世界先进水平。 光刻机全球只有荷兰ASML（背后有欧美各国电子企业的股份加持）一家最先进的，可以生产7纳米的晶圆芯片，其他国家都在追赶。中国首套90

因为他们可能觉得只是技术先进了，但没有应用到实际用途

这两者不能混为一谈，中国的芯片制造业还需要很长的一段路，需要国人的认可

主要是因为芯片业的发展太难突破了，而中国已经困了好几年了。